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當(dāng)前位置：上海添時(shí)科學(xué)儀器有限公司>>制膜設(shè)備>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀
1、配置兩個(gè)靶槍?zhuān)粋€(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡(jiǎn)便。
技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱(chēng) | VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | VTC-600-1HD | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 | |
| 1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） | ||
| 2、電：AC220V 50Hz,必須有良好接地 | ||
| 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上）,需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 | ||
| 4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 | ||
| 5、通風(fēng)裝置：需要 | ||
| 主要參數(shù) | 1、輸入電源：220V/50Hz | |
| 2、濺射靶數(shù)量：2 | ||
| 3、靶槍冷卻方式：水冷 | ||
| 4、極限真空度：7.4E-5pa | ||
| 5、真空室規(guī)格：Φ300×330 mm | ||
| 6、真空系統(tǒng)：VRD-16機(jī)械泵 FF-100/150渦輪分子泵 | ||
| 7、恢復(fù)真空：系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣） | ||
| 8、充氣系統(tǒng)：2路質(zhì)量流量計(jì)（１路氬氣100scc、２路氬氣200scc）特殊氣體可定制 | ||
| 9、濺射靶規(guī)格：Φ2",厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） | ||
| 10、樣品臺(tái)：Φ140mm/可旋轉(zhuǎn)（1～20rpm）/可加熱（室溫～1000℃） | ||
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 主機(jī)尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm | |
